中国正在加大对光刻设备的投资，转向本土工具，以寻求在美国出口限制下的更大技术独立性。据《商业时报》援引京畿21日报道，中国科技部于25日宣布将投资约1.1亿元人民币，授予由国产设备制造商SMEE（上海微电子设备）生产的步扫描光刻系统合同。
报告援引业内消息称，SMEE隶属于上海电集团，被视为中国半导体设备行业的核心企业，尤其是在先进光刻工具的研发制造领域。今年五月，SMEE声称其90nm ArF光刻系统已进入量产阶段。
获奖石版印刷工具的潜在细节
据21京记所述，该产品型号为SSC800/10，“SSC”是首次公开的光刻工具名称。“SS”被广泛认为代表步进扫描（step-and-scan），指的是当今主流高精度半导体光刻系统中使用的机械作方案，包括极紫外（EUV）和深紫外（DUV）工具。
与此同时，据ICsmart称，尽管部分消息称该系统支持28纳米工艺，但验证发现获奖机器实际上是使用248纳米光源、分辨率110纳米的KrF光刻系统。
MyDrivers进一步指出，SSC800 的覆盖精度为 15nm，被认为是干式光刻系统，而非高端沉浸式产品。
该奖项为何具有战略意义
然而，招标细节凸显了中国对该奖项的重视。正如21景智所指出，合同通过单一来源采购机制授予，这种方式通常仅在涉及不可替代的专利或专有技术，或特定公共服务需求需要从单一供应商采购时才被允许。报告补充说，相对较高的中标金额——远高于平版相关招标常见的数百万甚至数千万元人民币——加上使用机密项目代码（zycgr2011903），凸显了该奖项的代表性和战略性质。
除了该合同外，中国还持续加大对国内光刻技术开发的投资。据路透社报道，中国已组装出一台使用旧ASML系统组件的EUV原型机，中国政府目标是在2028年前生产出基于该原型机的功能性芯片，尽管2030年被视为更现实的目标。
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